MITR™-RF
Kompakter Schutz vor Aufständen und Partikeln für die MITR-M1-Halbmaske
- Schutz vor Reizstoffen wie CS und CN
- Schutz vor Partikeln, einschließlich pharmazeutischer und biologischer Stoffe
- Flaches Design für uneingeschränkte Bewegungsfreiheit
- Die körpernahe Form verringert das Risiko, in Stresssituationen hängen zu bleiben oder gepackt zu werden
- 5,5 Jahre Haltbarkeit
- Nur gemäß den Produktanweisungen, zugelassenen Konfigurationen und örtlichen Vorschriften verwenden
- Nicht in sauerstoffarmen oder sauerstoffangereicherten Umgebungen verwenden
- Die Regierung der U.S. unterliegt bestimmten Kontrollen über das MITR-RF und untersagt den Export, Verkauf, die Übertragung, den Transport oder den Versand des Produkts außerhalb der U.S., sofern nicht zuvor eine Genehmigung der Regierung der U.S. eingeholt wurde oder dies nach den Gesetzen und Vorschriften der U.S. zulässig ist. Diese Beschränkung gilt unabhängig davon, ob sich das Produkt in seiner ursprünglichen Form befindet oder in andere Artikel eingearbeitet wurde. Dieses Produkt unterliegt den Export Administration Regulations (EAR) und ist als 1A004 klassifiziert.
- Hinweis zur Exportkontrolle: Verkauf, Export, Reexport oder Weitergabe dieses Produkts können den geltenden Exportkontroll- und Sanktionsbestimmungen der USA, des Vereinigten Königreichs und anderer Länder unterliegen. Die Verfügbarkeit hängt von der Produktklassifizierung, dem Bestimmungsland, dem Endnutzer und der vorgesehenen Endverwendung ab. Avon kann vor Annahme oder Ausführung einer Bestellung zusätzliche Informationen oder Genehmigungen anfordern. Bitte wenden Sie sich für weitere Informationen an den Kundenservice.
- Unterstützt durch Schulungs- und Serviceprogramme von AVONPLUS, damit Nutzer geschützt, selbstbewusst und regelkonform bleiben
Vertriebsanfrage zum Produkt
Füllen Sie vor dem Absenden der Anfrage die erforderlichen Informationen aus.
Broschüre oder Datenblatt anfordern
Geben Sie Ihre E-Mail-Adresse ein, und wir senden die Dokumente für MITR™-RF an Ihren Posteingang.